2015年7月8日 · 欠电位沉积( 简称upd) 是指金属( 或氢等)在正于upd 过程与沉积基体的晶面取向、沉积物和沉其Nernst 电位时,发生在异种金属基体上的沉积现积基体的功函及二者间的部分电荷转移等多种因象; 其为某些金属电沉积过程的初始步骤,主要源于沉积物种与基底间的相互作用大于沉积物种之素有关,53 其过程热力学主要涉及欠电位位移、电吸附价、电化学吸附等温线和温度
赝电容从 电化学 的角度可以分为三个类型：（1） 欠电位沉积；（2） 氧化还原 赝电容；（3） 插层 式赝电容。欠电位沉积是溶液中 金属离子 在其 氧化还原电位 下,吸附在另一种金属表面形成单层金属层的过程。
欠电位沉积 （Underpotential Deposition,缩写UPD）是指一种金属可在比其热力学可逆电位正的电位下沉积在另一基体上的现象,是一个与电极/溶液结构密切相关的重要的电化学现象。
2020年3月31日 · 赝电容器通过电解液中的质子和电极材料表面发生 法拉第电荷转移而进行储能,可分为欠电位 沉积、氧化还原赝电容和插层式赝 电容三种类型。
2019年3月24日 · 欠电位沉积是指当沉积电位小于平衡电位时,金属表面上的金属离子（或质子）和氢氧根离子的单层吸附。 基于这种机理,纳米多孔的Au-Pt片也被用来制备电化学驱动器。
2015年7月8日 · 欠电位沉积(upd)具有重要的理论和应用价值, 一直是电化学领域的研究热点. upd 过程理论研究的实质主要为围绕沉积基体、沉积物种和阴离子(或其他有机添加剂)三者在upd过程中的相互作用关系和规律的研究.
2020年6月17日 · 典型的超级电容器由可使离子通过的隔膜（如：纸板、陶瓷、玻璃、塑料 和纸等）,分离的电极板和电解质组成。 在电极上,电荷通过电极-电解质界面
2020年9月4日 · 赝电容的储能机理主要有三类：欠电位沉积；快速氧化还原；插层式 。欠电位沉积是指一种金属在电位下沉积在另一基体上的现象,这种现象是在两种不同金属间发生的,常见的欠电位沉积是在金表面沉积金属铜。
欠电位沉积（Underpotential Deposition,缩写UPD）是指一种金属可在比其热力学可逆电位正的电位下沉积在另一基体上的现象,是一个与电极/溶液结构密切相关的重要的电化学现象。
2015年3月23日 · 总结了主要的欠电位沉积(upd)的原位研究方法, 包括电化学研究方法(循环伏安(CV)、计时电流(CHR)和电化学阻抗谱(EIS))、界面分析方法(电化学石英晶体微天平(EQCM)和电化学扫描隧道显微镜/电化学原子力显微镜(ECSTM/ECAFM))及X射线分析技术(X 射线吸收